Gerkens, Dr. Jan

Au cours des dernières décennies, la miniaturisation des matériaux était immanente dans tous les domaines de la technologie, en particulier dans l'industrie des semi-conducteurs. De nos jours, la miniaturisation des composés semi-conducteurs a atteint un niveau où les procédés de fabrication établis atteignent leurs limites techniques. Le dépôt de couche atomique (ALD) offre une méthode alternative pour le dépôt de films métalliques ultra-minces, étape cruciale dans la fabrication de composés semi-conducteurs. Basé sur une réaction chimique entre la surface et...